- 功能
檢測wafer mask 的glass side/pellicle side表面particle
- 產品尺寸
6"wafer 光罩——玻璃:152×152mm；薄膜:149×113mm
- 精度
＞1μm particle檢出
- 檢測類型
異物，指紋，酒精痕，絮狀物，油漬，劃傷，針孔等缺陷
- 技術優勢
Class 1無塵等級，曝光前后瑕疵管控，可針對Particle大小進行分類
Mask AOI
Mask AOI，用于檢測wafer mask的glass side/pellicle side表面particle，Class 1無塵等級，曝光前后瑕疵管控，可針對Particle大小進行分類。
技術參數
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